Bế giảng Lớp bồi dưỡng dự nguồn cán bộ cao cấp khóa II

Thứ Sáu, 20/12/2013, 22:42
Sáng 20/12, tại Hà Nội, Học viện Chính trị - Hành chính Quốc gia Hồ Chí Minh tổ chức lễ bế giảng lớp bồi dưỡng dự nguồn cán bộ cao cấp khóa II năm 2013. Đồng chí Tô Huy Rứa, Ủy viên Bộ Chính trị, Bí thư Trung ương Đảng, Trưởng ban Tổ chức Trung ương, Trưởng ban Chỉ đạo tổ chức lớp học; đại diện lãnh đạo các bộ, ban, ngành Trung ương và thành phố Hà Nội đã dự. 

77 học viên là các cán bộ chủ chốt và trong diện quy hoạch dự nguồn cán bộ chủ chốt của các tỉnh, thành phố trực thuộc Trung ương và các cơ quan Trung ương đã tham dự lớp học. 4 tháng học tập trung tại Học viện, các học viên được trang bị hệ thống kiến thức cơ bản về lý luận, thực tiễn và một số kỹ năng, góp phần củng cố nhận thức về chính trị - xã hội, lập trường cách mạng; xây dựng tầm nhìn và tư duy chiến lược, nâng cao năng lực lãnh đạo, quản lý; rèn luyện, bồi dưỡng đạo đức cách mạng, tác phong, trách nhiệm công vụ của người cán bộ lãnh đạo cao cấp của Đảng, Nhà nước trước yêu cầu của sự nghiệp công nghiệp hóa, hiện đại hóa, xây dựng, phát triển đất nước và hội nhập quốc tế.

Thay mặt Bộ Chính trị, Ban Bí thư Trung ương Đảng phát biểu với lớp học, đồng chí Tô Huy Rứa nêu rõ: Đối với lớp dự nguồn cán bộ cao cấp lần này, Bộ Chính trị, Ban Bí thư yêu cầu nội dung, chương trình đào tạo phải bám sát mục tiêu, yêu cầu, định hướng chiến lược cán bộ, gắn đào tạo với quy hoạch cán bộ.

Đồng chí Tô Huy Rứa mong rằng, với kiến thức mới đã được trang bị từ lớp học, các học viên sẽ tự tin, vững vàng hơn, có những đóng góp nhiều hơn, thiết thực hơn, hiệu quả hơn trên cương vị công tác của mình; đồng thời là tấm gương sáng về tinh thần học tập, tu dưỡng, rèn luyện đạo đức, lối sống, tác phong công tác, xứng đáng với sự tin cậy của các cấp ủy, tổ chức đảng nơi công tác và sự quan tâm của Trung ương. Bên cạnh ý chí quyết tâm và tinh thần trách nhiệm, các học viên cần có phương pháp công tác đúng đắn để tiếp cận, nắm bắt và xử lý, nhất là những vấn đề mới, nảy sinh từ thực tiễn công tác

PV
.
.
.